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Maestría en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías Tecnologías (Programa en línea y semipresencial)

Maestría en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías Tecnologías (Programa en línea y semipresencial)

El alumno será capaz de comprender la realidad jurídica nacional e internacional en materia de Propiedad Intelectual. Conocerá a fondo las distintas figuras y procedimientos jurídicos relativos a la Propiedad industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías mediante el novedoso método del caso y utilizando innovadoras herramientas tecnológicas.

 

Módulo I

Propiedad industrial.

1) Invenciones (patentes, modelos de utilidad, modelos industriales, dibujos industriales y esquemas de trazado).

2) Tratado de cooperación en materia de patentes para su registro en el ámbito Internacional.

3) Variedades vegetales.

4) Marcas no tradicionales.

5) Marcas, nombres y avisos comerciales.

6) Marcas notorias y renombradas.

7) La propiedad industrial, la industria farmacéutica y los temas que la impactan.

8) Indicaciones geográficas y denominaciones de origen.

9) Transferencia de tecnología (licencia y transmisión de derechos en materia de propiedad industrial).

10) Secretos industriales y empresariales.

11) Franquicias.

12) Efectos fiscales de la propiedad industrial en el ISR.

 

Módulo II

Derechos de autor.

1) Retos contemporáneos del derecho de autor.

2) Panorama Internacional del derecho de autor.

3) Contratos en materia de derechos de autor.

4) Derechos conexos (actores, intérpretes, ejecutantes, editores de libros, productores de fonogramas y videogramas, organismos de radiodifusión).

5) Sociedades de gestión colectiva.

6) Limitaciones a los derechos de autor.

7) Reservas al uso exclusivo de obras y difusiones periódicas, personajes humanos y ficticios, nombres y grupos artísticos, promociones publicitarias.

8) Registro público del derecho de autor.

9) Avenencia y arbitraje en materia autoral.

10) Entorno digital. Los nuevos modelos de negocios.

11) Conocimientos tradicionales, biodiversidad y propiedad intelectual.

12)  Derecho a la imagen.

 

Módulo III

Procedimientos en materia de propiedad industrial y derechos de autor.

1) Substanciación en los procedimientos administrativos seguidos ante el IMPI.

2) Medidas en frontera.

3) Conflictos entre marcas y reservas al uso exclusivo.

4) Procedimiento administrativo de infracción en materia de propiedad industrial.

5) Procedimientos administrativos de nulidad, caducidad y cancelación en materia de propiedad industrial.

6) El amparo en el procedimiento de registro de marca.

7) Procedimiento administrativo de nulidad, caducidad y cancelación de reservas al uso exclusivo.

8) Infracción en materia de derechos de autor y comercio.

9) Delitos en materia de propiedad industrial y derechos de autor.

10) Juicio de nulidad ante el TJFA.

11) Criterios de la SEPI en materia de propiedad intelectual.

12) Daños y perjuicios en materia civil.

 

Módulo IV

Derecho de las nuevas tecnologías.

1) Nombres dominio.

2) Bitcoins y otras criptomonedas.

3) Delitos informáticos.

4) Firma electrónica y firma digital.

5) Prestadores de servicios de certificación y fe pública en medios electrónicos.

6) Contratación por medios electrónicos.

7) Derecho del deporte.

8) Derecho del entretenimiento.

9) Derecho de las telecomunicaciones.

10) Derechos de autor en la red.

11) Fintech (tecnología financiera).

12) Protección de datos personales.

Horarios

Duración: 24 meses (Cuatro módulos semestrales)
Modalidad: Semi presencial
Horario: 12 sesiones en línea y 5 sesiones presenciales los sábados de 8:00 a 14:00 hrs. (17 sesiones por semestre).

 

Claustro de profesores

Nuestros profesores comparten la convicción de que la educación personalizada es la mejor manera de propiciar el auténtico desarrollo de la sociedad.

Becas

  • Descuento para funcionarios públicos y funcionarios judiciales. (Federales, Estatales o Municipales).
  • Descuento para exalumnos de la Universidad Panamericana.
  • Descuento Miembros de la AMPPI (Asociación Mexicana para la Protección de la Propiedad Industrial).
  • Descuento para empleados del Poder Judicial del Estado, previa autorización del STJE.
  • Descuento para Asociados de la Barra de Abogados del Estado de Aguascalientes, previa carta de autorización del presidente de la Barra.

 

*Descuentos no acumulables.

Perfil de ingreso

Está dirigido a aquellos abogados y profesionistas cuya práctica profesional se encuentre vinculada a las siguientes ramas:

  • Propiedad Industrial
  • Derechos de Autor
  • Derechos de las Nuevas Tecnologías

 

PROCESO DE ADMISIÓN

1. Llenar solicitud de inscripción

2. Sostener una entrevista con el área académica.

3. En caso de ser aceptado entregar la siguiente documentación:

  • Copia de título legalizado por ambos lados
  • Copia de cédula profesional
  • Copia de CURP
  • Certificado original de estudios de licenciatura legalizado
  • Acta de nacimiento original
  • 6 fotografías tamaño credencial, ovaladas, blanco y negro, en papel mate autoadherible, con ropa formal y clara

4. Realizar el pago

Perfil de egreso

El alumno egresado de esta maestría mejorará sus competencias en casos jurídicos referentes a la materia y será capaz de:

  • Comprender la realidad jurídica nacional e internacional en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías.
  • Reconocer a detalle las distintas figuras y procedimientos jurídicos relativos a la Propiedad industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías.
  • Aplicar el novedoso método del caso y utilizar de forma eficiente las herramientas tecnológicas más innovadoras.

 

CONVENIOS CON EMPRESAS

La Maestría en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías cuenta con convenios vigentes con distintas organizaciones públicas y privadas.

Contacto

Mtro. Diego Armando Labra Aguilar

Coordinador de Posgrado

dlabra@up.edu.mx

Tel. (449) 910 6214

Cel. (449) 361 7155

 

Lic. José Paulo Bassol Martínez

Director de Posgrados 

jbassol@up.edu.mx 

Tel. (449) 910 6215

RVOE

Maestría en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías. RVOE 20100189 del 25 de febrero de 2010